Canon Anelva二手物理氣相沉積PVD設備FC7100于2011年開始投入使用，適用于12英寸晶圓。
特點：
能夠通過超高真空共濺射控制薄膜成分。
高精度控制（0.1nm單位）膜厚和優(yōu)異的均勻性（1σ<1%）。
兼容亞32nm節(jié)點或更小的鑲嵌柵形成工藝。
（使用 PCM-PVD 方法進行高覆蓋率沉積）。
通過使用緊湊型陰極降低材料成本。輕松更換材料。
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Canon Anelva二手物理氣相沉積PVD設備FC7100于2011年開始投入使用，適用于12英寸晶圓。
能夠通過超高真空共濺射控制薄膜成分。
高精度控制（0.1nm單位）膜厚和優(yōu)異的均勻性（1σ<1%）。
兼容亞32nm節(jié)點或更小的鑲嵌柵形成工藝。
（使用 PCM-PVD 方法進行高覆蓋率沉積）。
通過使用緊湊型陰極降低材料成本。輕松更換材料。
