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ULVAC愛發科多腔濺射設備Entron EX W300是在Al、Cu、高熔點金屬布線工序中有很多實績的單片式多室對應平臺。適應下一代流程的SIS（Self-Ion Sputter）-PVD、金屬CVD/ALD、DRY預處理模塊的組合且可...
ULVAC愛發科二手葉片式濺射設備CERAUS ZX-1000與2011年投入使用，針對于8英寸晶圓使用。...
Novellus二手濺射設備Inova于1999年投入使用，適用于8英寸晶圓。...
愛發科ULVAC蒸發鍍膜設備 蒸發臺EBX-1000生產于2002年。 ...
Load-lock式Plasma CVD設備CC-200/400是小型的使用便利的可對應從研究開發到量產的設備。...
ULVAC CS-200系列磁控濺射鍍膜設備是一款追求低成本和用戶友好操作的磁控濺射設備，通過增加配有機械手d裝載固定腔室（Load lock chamber）使在上下基板時工藝腔室仍保持真空。...
centrotherm 臥式熱反應系統HORICOO 200 是大量現場驗證及具有多功能的臥式爐系統，基于客戶需求可靈活選擇大、中批量生產以及研發類型機臺。為AP、LP和PECVD等多種工藝應用提供了可靠的...
應用范圍：LED、Laser Diode、MEMS、Power MoS、Power Chip等等 蒸鍍設備型式： 1. 金屬電子束蒸鍍設備 2. 金屬熱阻式蒸鍍設備 3. 電子束/熱阻混合式蒸鍍設備 4. ITO電子束蒸鍍設備 5. 雙電子束...
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