隨著TWINSCAN XT：1400Ei的發布，使用ArF浸入式光刻生產65nm體積現在成為現實。此外，這款第三代“濕式”工具可以讓你研究55納米內存和45納米邏輯節點，以及極化等先進技術。
XT：1400Ei擁有高性能蔡司1400i鏡頭，擁有從0.65到0.93，使其成為當時市場上最大的NA光刻工具。浸入鏡頭采用與Starlith1400干鏡頭相同的設計，保證現有的低像差和雜散光水平轉移到浸入技術。此外，濕式系統增加了兩倍自由度。
XT：1400Ei配備了ASML的Ultra-k1——一套成像增強硬件和軟件，使更小的功能尺寸和更高的產量——以獲得最大的性價比。
