Products Center
主頁 > 產(chǎn)品中心 > 光刻機(jī) >
佳能二手i-line光刻機(jī)CANON FPA 3000 I4 ，可對尺寸為8英寸的晶圓進(jìn)行加工處理...
ASML二手ARF光刻機(jī)AT 1150，193nm，拆卸以及包裝已經(jīng)完成，隨時可發(fā)貨。...
佳能canon 二手i-line光刻機(jī)FPA-5500IZ+，分辨率350nm，可對12英寸晶圓進(jìn)行光刻工藝加工。...
尼康的這款i-line光刻機(jī)NSR 2205i12D。分辨率≦350 nm，曝光光源i-line（365nm波長），縮小比1:5，曝光場22mm*22mm至17.9(H)*25.2(V)mm(6-inch reticle), 20.0*20.4mm(5-inch reticle), 對準(zhǔn)精度 (EGA,|M|+3σ)≦55nm。...
ASML 二手翻新DUV光刻機(jī)生產(chǎn)于2006年，可針對于300mm尺寸的晶圓進(jìn)行處理。...
TWINSCAN XT:450G 365-nm步進(jìn)式掃描系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級光刻工具，設(shè)計用于批量生產(chǎn)分辨率低至 220-nm 及以上的關(guān)鍵 i-line 應(yīng)用。...
TWINSCAN XT:400G 365 nm步進(jìn)掃描系統(tǒng)是一種超高生產(chǎn)率的雙級光刻工具，專為350 nm分辨率的300 mm晶圓批量生產(chǎn)而設(shè)計...
TWINSCAN XT:1900Gi Step-and-Scan 系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級浸沒式光刻工具，專為 45 納米及以下分辨率的 300 毫米晶圓批量生產(chǎn)而設(shè)計。...
XT:1450 是先進(jìn)的干式 ArF 批量生產(chǎn)系統(tǒng)。它提高了 IC 制造商的所有權(quán)價值，在批量制造條件下每小時可生產(chǎn) 143 片晶圓。新的 AERIAL-P 照明器支持高效偏振，加上增強(qiáng)的鏡頭像差控制和增強(qiáng)的疊加...
XT：1400Ei擁有高性能蔡司1400i鏡頭，擁有從0.65到0.93，此外，濕式系統(tǒng)增加了兩倍自由度。...
WINSCAN XT:1250i使用193 nm波長的光，具有數(shù)值孔徑為0.85的透鏡系統(tǒng)。它被描述為預(yù)生產(chǎn)光刻掃描儀，標(biāo)志著在1150i的Twinscan上的一個進(jìn)步，這是ASML最初的浸入式原型，其數(shù)值孔徑相對較低，...
ASML二手翻新現(xiàn)貨ArF光刻機(jī)XT:1250B，分辨率<70nm。...
13730999691
<ul id="oqco2"></ul>
