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SUSS MicroTec的半自動(dòng)濕處理系統(tǒng)AD12為水介質(zhì)應(yīng)用提供了卓越的清潔和開(kāi)發(fā)功能。單晶片處理平臺(tái)可用于工件，晶片尺寸高達(dá)300mm，方形基板高達(dá)230mmx230mm，用于晶片的帶框高達(dá)300mm。它處理...
SCREEN二手清洗設(shè)備WS-820L，針對(duì)8英寸晶圓的高通量批量清洗系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)靈活的生產(chǎn)線配...
全自動(dòng)晶圓清洗機(jī) AWS150針對(duì) 4 寸晶圓后端制程設(shè)計(jì)，用于單片清洗。...
SCREEN單片式半導(dǎo)體清洗設(shè)備SU 3100具有8個(gè)內(nèi)置腔室，吞吐量能夠達(dá)到300wph。...
至純科技 單片式濕法清洗設(shè)備 Ultron S200/S300...
槽式清洗機(jī) Ultron B200的關(guān)鍵應(yīng)用：柵極預(yù)清洗、RCA清洗、光阻去除、氧化硅腐蝕、氮化硅腐蝕、CoSix選擇性腐蝕...
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